氣相沉積爐氣處理裝置是一種化工設備，咸陽陶瓷研究設計院有限公司從事該窯爐生產多年?；瘜W氣相沉積（CVD）爐技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法?；瘜W氣相淀積是近幾十年發展起來的制備無機材料的新技術。化學氣相淀積法已經廣泛用于提純物質、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態無機薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-V、II-IV、IV-VI族中的二元或多元的元素間化合物，而且它們的物理功能可以通過氣相摻雜的淀積過程精確控制。

 化學氣相沉積技術是應用氣態物質在固體上闡述化學反應并產生固態沉積物的一種工藝，它大致包含三步：

1）形成揮發性物質；

2）把上述物質轉移至沉積區域；

3）在固體上產生化學反應并產生固態物質。