化學氣相沉是傳統的制備薄膜的技術，它的原理就是利用氣態的先驅反應物，通過原子、分子間的化學反應，在晶片上形成薄膜。氣相沉積能夠生產出具備高質量高純度以及高強度等優點的材料，因此在半導體行業很受歡迎。
氣相沉積爐的罩體和蓋板它們連接一體軸，氣相沉積爐的側壁上設置電極設置于罩體內部，罩體內壁對應的導電板和蓋板以及驅動讓其饒軸轉動，蓋板密封的罩體的開口和罩體形成一個密封體，蓋板使罩體的開口保持著開狀可相對罩體翻轉,極大的方便進行上下料作業,不需要采用微波發生器作為能量來源,有利于降低成本,蓋板可以自動打開和關閉,效率高,易于操作。
