現在很多大學實驗室、研究院都在采用氣相沉積爐，與其他沉積方法相比，氣相沉積爐除了具有設備操作簡單、維護方便、靈活性強外，還具有以下一系列的優點：
(1)在中溫和高溫下,氣相沉積爐通過氣態的初始化合物之間的氣相化學反應而沉積固體;
(2)氣相沉積爐可以在大氣壓(常壓)或者低于大氣壓下進行沉積,一般說低壓效果更好些;
(3)氣相沉積爐采用等離子和激光輔助技術可以顯著促進化學反應,使沉積可在較低的溫度下進行;
(4)鍍層的化學成分可以改變,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層;
(5)可以控制鍍層的密度和純度;
(6)繞鍍性好,可在復雜形狀的基體上以及顆粒材料上沉積;
(7)氣體條件通常是層流的，可在基體表面形成厚的邊界層;
(8)沉積層通常具有柱狀晶結構,不耐彎曲,但通過各種技術對化學反應進行氣相擾動，可以得到細晶粒的等軸沉積層;
(9)氣相沉積爐可以形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物鍍層。只要原料氣稍加改變采用不同的工藝參數便可制備性能各異的沉積層;可涂覆各種復雜形狀工件,如帶槽、溝、孔或盲孔的工件;涂層與基體間結合力強等。
