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氣相沉積爐技術(shù)特點(diǎn)

時間:2020/11/17 9:19:00 來源:http://www.andersen-bakery.cn/news502530.html

科源氣相沉積爐技術(shù)成熟、型號齊全、質(zhì)量可靠、服務(wù)有保障,是各大高校和科研機(jī)構(gòu)長期合作企業(yè),可根據(jù)需求定制。下面我們來了解一下氣相沉積爐的技術(shù)特點(diǎn)。

1)在中溫或高溫下,通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。

2)氣相沉積爐可以在常壓或者真空條件下(負(fù)壓“進(jìn)行沉積、通常真空沉積膜層質(zhì)量較好)。

3)采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進(jìn)化學(xué)反應(yīng),使沉積可在較低的溫度下進(jìn)行。

4)涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化,從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。

5)氣相沉積爐可以控制涂層的密度和涂層純度。

6)繞鍍件好??稍趶?fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好,所以可涂覆帶有槽、溝、孔,甚至是盲孔的工件。

7)沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu),不耐彎曲,但可通過各種技術(shù)對化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行氣相擾動,以改善其結(jié)構(gòu)。

8)氣相沉積爐可以通過各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。

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